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                立式化学气相沉积(CVD)炉 先进陶瓷
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                产品详情

                设备用途:


                用做石墨或碳碳表面的碳化硅涂层、碳碳√复合涂层。

                用途广泛 如:

                1 碳碳复合涂层:光伏晶体炉⊙的热场材料

                2 石墨涂层:LED蓝宝石衬╱底MOCVD的石墨托盘

                设备特点:

                1 立式结构,炉壳用耐腐蚀材料制成。

                2 独特的内罩〒进排气结构,热场温∑度均匀性好。

                3 气氛控制精确,真空系统配有过滤器,可选配尾∏气处理系统。

                4 主要电器元件采用施耐德及欧姆龙品牌,性能稳定、可靠。

                5 配备出、装料料车,方ω 便操作及出装料,提◆高工作效率。

                主要技术参数:

                No.型号工作〇区尺寸(?XH)mm高温度  (℃)真空度   (Pa)

                压升率

                 (Pa/h)

                温度均匀性 (℃)功率   (KW)
                1ZT-60-15300X50015001-1000.67±1060
                2ZT-145-15600X80015001-1000.67±10145
                3ZT-220-15800X100015001-1000.67±15220
                4ZT-270-151000X150015001-1000.67±20275
                5ZT-550-151500X200015001-1000.67±20550

                炉膛尺寸可按要求定做

                — 预约订购类 —

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