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                卧式化学气相沉积(CVD)炉
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                产品详情

                设备用途:

                化学气相沉积炉主要用于碳化硅(SIC)及氮化硼(BN)等新材料的制备。

                设备特点:

                1 卧式结构,双炉门结构,炉门启闭采用气动方式。

                2 双层炉壳结构,内层不锈钢,外层为碳钢,中间通水冷却。石墨碳棒加热体,石墨碳毡保温层保温效果好。

                3 控制方式为PLC加触摸屏方式,有手动及自动控制切换。自动化程度高,操作方便。

                4 主要电器元件采用施耐德及欧姆龙品牌,性能稳定、可靠。

                5 配备出、装料料车,方便操作及出装料,提高工作效率。

                主要技术参数:

                No.型号

                工作区尺

                (WXHXL)mm

                温度 

                (℃)

                真空度 

                (Pa)

                压升率 

                (Pa/h)

                温度均匀性

                 (℃)

                 (KW) 

                1HZT-100-15400X400X60015001-1000.67±20100
                2HZT-145-15500X500X75015001-1000.67±20145
                3HZT-145-15600X600X90015001-1000.67±20190
                4HZT-360-15700X700X200015001-1000.67±20360




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